宏理氣體 氧氣 二氧化碳 笑氣 氣體 氧氣鋼瓶 氮氣 氧氣 笑氣 氣體
  宏理氣體 氧氣 二氧化碳 笑氣 液態氮 氧氣製造機
公司簡介 充氣體服務 事蹟案例 知識分享 購物說明 首頁
 
宏理氣體分類項目

三氟化氮 首頁 > 宏理氣體 知識分享 > 其他氣體資訊 > 三氟化氮

三氟化氮

   三氟化氮 (NF3)在半導體及TFT-LCD製造的薄膜製程中扮演「清潔劑」的角色,不過這類清潔劑是氣態,而非液態。

   薄膜製程的主要設備是「化學氣相沉積」(CVD)機台,常常可在電視上看到機器手臂托著一片晶圓送進反應室(Chamber)的鏡頭,就是CVD操作的狀態。CVD會在晶圓片上長出薄膜,薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金屬材料,但這些材料不僅會附著在晶片上,也附著在反應室內的「牆壁」上,內牆上的二氧化矽累積至相當數量,就會在反應室內形成微塵粒子(Particle),影響晶圓片的良率。因此每台CVD機台在處理過規定數量的晶圓片後,就要使用含氟的氣體清洗,以去除內壁上的矽化物質。

   以往半導體廠多半採用四氟化碳(CF4)、C 2F6C3F8等以氟及碳結合的氣體清潔CVD,讓氟離子「吃掉」矽,變成氟矽烷氣體排出,但是其清潔效果卻不如NF3,內壁上容易殘留形成高分子物質,故NF3相對而言清潔效果高出很多。

   一九九七年全球各國為降低臭氧層破壞所簽定的「京都議定書」,造就了NF3氣體的出頭天。因為NF3CF4C2F6等氣體都屬於多氟碳化物,這類物質排放是造成溫室效應的來源之一,而半導體工業又必需用到此類氣體,故一九九九年WSC(全球半導體會議)參加國美、歐、日、韓及我國就簽署協議,約定在二年之前,要將多氟碳化物的用量減少一%。

   半導體廠為了降低排氣對溫室效應的影響,在排放含氟廢氣前,會以高溫將氣體由有機轉分解為無機,無機氣體排入大氣才不會破壞臭氧層。這道高溫的手續若要分解CF系列的氣體,必需達到攝氏一千二百度高溫,但是要分解 NF氣體,只要攝氏七、八百度即足夠。對晶圓廠而言,處理NF氣體的成本比處理CF要節省許多,故許多製程設備大廠近二年推出的CVD設備,都改採NF3為主要清潔氣體。而執全球CVD設備之牛耳的廠商,也順道吃下TFT-LCD廠的市場大餅,因此TFT-LCD廠使用的CVD設備,同樣以CF3來清潔反應室內壁。

 

  

宏理氣體

宏理國際股份有限公司
地址:台北縣永和市得和路47

TEL: (02)2922-4611 FAX: (02)2923-0246

http://www.goodgas.com.tw

email:goodgas2@yahoo.com.tw


氧氣 二氧化碳 笑氣 氣體 氮氣 氧氣 二氧化碳 笑氣 氣體 氮氣 氧氣 二氧化碳 笑氣 液態氮 氧氣製造機
氧氣 宏理氣體 二氧化碳 氣體 笑氣 氮氣 液態氮 氧氣 二氧化碳 氧氣製造機 壓力計 特殊氣體 混合氣體 液態氮桶 液態氧 氧氣桶 醫療氣體 呼吸治療 分析氣體 呼吸照護 氦氣 乙炔 氣體 煙烙燼氣體 氧氣 二氧化碳 笑氣 氮氣 液態氮

宏理氣體

宏理國際股份有限公司
地址:新北市永和區得和路47

TEL: (02)2922-4611 FAX: (02)2923-0246

http://www.goodgas.com.tw

email:goodgas2@yahoo.com.tw